WWW.DISS.SELUK.RU

БЕСПЛАТНАЯ ЭЛЕКТРОННАЯ БИБЛИОТЕКА
(Авторефераты, диссертации, методички, учебные программы, монографии)

 

Федеральное агентство по образованию

Уральский государственный технический университет УПИ

Д.Ю. Кручинин

ПОДГОТОВКА ОПТИЧЕСКОГО ПРОИЗВОДСТВА

ДЛЯ ИЗГОТОВЛЕНИЯ КРУГОВЫХ ШКАЛ (ЛИМБОВ)

Учебное электронное текстовое издание

Подготовлено кафедрой «Физическая и коллоидная химия»

Научный редактор: профессор, доктор техн. наук В.А. Дерябин

Методические указания по выполнению курсовой работы для студентов очного обучения специальности 191100 – Оптические технологии и материалы В работе изложены задачи и объем курсовой работы.

Подробно освещено содержание курсовой работы: выбор технологических процессов для изготовления круговых оптических шкал, рабочих фотошаблонов и фотошаблоноворигиналов круговых оптических шкал, разработка ведомости оснащения, разработка технических заданий на проектирование рабочих фотошаблонов и фотошаблонов-оригиналов круговых оптических шкал.

© ГОУ ВПО УГТУУПИ, 1. Структура курсовой работы Курсовая работа по курсу «Перспективные оптические технологии»

должна содержать:

• задание по курсовой работе;

• краткое описание технологических процессов фотолитографии и термохимической записи на пленках хрома;

• технические характеристики технологических процессов прямой и обратной фотолитографии;

• технические характеристики термохимической технологии записи на пленках хрома;

• эскиз и технические требования круговой оптической шкалы;

• выбор и обоснование выбора технологических процессов изготовления круговой шкалы, рабочего фотошаблона и фотошаблона-оригинала;

• ведомость оснащения;

• техническое задание на проектирование рабочего фотошаблона;

• техническое задание на проектирование фотошаблона-оригинала;

• список использованной литературы.

2. Технологические процессы изготовления круговых оптических шкал (лимбов) Круговые оптические шкалы или лимбы могут быть двух типов:

геодезические лимбы и кодовые лимбы. Геодезические лимбы представляют собой круговую оцифрованную штриховую шкалу, нанесенную на стеклянную полированную плоскую подложку, имеющую форму кольца.

Топология геодезического лимба состоит из темных штрихов, цифр, расположенных около штрихов, знаков (+) и (-), а также других знаков. Так как геодезические лимбы предназначены для визуального наблюдения в приборах, к ним наряду с другими техническими требованиями (угловые и линейные параметры) предъявляются высокие требования по чистоте полированной поверхности (класс чистоты 0–10 с дополнительными более жесткими требованиями) и по дефектности элементов топологии.

Кодовые лимбы (многоразрядные кодовые лимбы и растры) предназначены для работы в приборах с автоматизированным измерением углов. Топология шкалы состоит из чередующихся светлых и темных штрихов, а также других вспомогательных элементов топологии. Подложки кодовых лимбов также представляют собой стеклянную полированную пластину, имеющую обычно форму кольца. Иногда встречаются лимбы, имеющие подложки в виде круга, трапеции и др., а также металлостеклянной сборки. Требования по чистоте полированной поверхности, предъявляемые к кодовым лимбам (II, III и IV классы чистоты), а также по дефектности, более свободные по сравнению с геодезическими лимбами.

На предприятиях оптико-механической промышленности для изготовления лимбов используются механические и фотолитографические способы.

К механическим способам относятся технологические процессы деления алмазным или стальным резцом непосредственно по маскирующему покрытию, например, серебру, деления по защитному лаковому покрытию с последующим нанесением маскирующего хромового или другого покрытия и деления по защитному восковому покрытию с последующим травлением плавиковой кислотой и запуском маскирующего вещества в образовавшиеся рельефные углубления.

Наиболее перспективными и прогрессивными являются фотолитографические способы изготовления оптических шкал. Имеется два основных технологических процесса: фотолитография с последующим химическим травлением хромового маскирующего покрытия (прямая) и обратная фотолитография.

Основные операции технологического процесса прямой фотолитографии:

чистка, напыление хромового маскирующего покрытия, нанесение фоторезиста, сушка фоторезистивного покрытия (термообрабтка), экспонирование фоторезистивного покрытия через маскирующее покрытие фотошаблона, проявление фоторезистивного покрытия, полимеризация фоторезистивного покрытия (термообработка), химическое травление маскирующего хромового покрытия через защитное фоторезистивное покрытие, снятие фоторезистивного покрытия, контроль линейных и угловых параметров, контроль чистоты полированных поверхностей и дефектности. Прямая фотолитография является позитивным технологическим процессом, т.е. светлые элементы топологии на лимбе соответствуют светлым элементам на фотошаблоне.

фотолитографии: чистка, обработка в парах ГМДС (термообработка), нанесение фоторезиста, сушка фоторезистивного покрытия (термообработка), экспонирование фоторезистивного покрытия через маскирующее покрытие фотошаблона, проявление фоторезистивного покрытия, напыление хромового маскирующего покрытия, снятие фоторезистивного покрытия, контроль линейных и угловых параметров, контроль чистоты полированных поверхностей и дефектности. Обратная фотолитография является негативным технологическим процессом, т.е. темные элементы топологии на лимбе соответствуют светлым элементам топологии на фотошаблоне.

Технические характеристики фотолитографических способов элементов топологии, мкм осей штрихов (для диаметра соответствующего элемента топологии топологии фотошаблона, мкм Характеристики получены при использовании фотошаблонов, имеющих характеристики, указанные в табл. 2.

Фотошаблоны можно разделить на два типа:

непосредственно в технологических процессах фотолитографии при изготовлении лимбов в операции экспонирование. Они могут быть изготовлены фотолитографическими способами или с помощью генератора изображений.

2) Фотошаблоны-оригиналы – это фотошаблоны, используемые для изготовления рабочих фотошаблонов лимбов способами фотолитографии.

Они могут быть изготовлены только с помощью генератора изображений.

Фотолитографические способы позволяют изготавливать рабочие фотошаблоны круговых оптических шкал, имеющие характеристики, указанные в табл. 1.

Для изготовления фотошаблонов, как оригиналов, так и рабочих используется генератор изображений модели CLWS-300, в котором для синтеза топологии применяется термохимическая технология записи на пленках хрома. Основное отличие генератора изображений модели CLWSот генераторов изображений, применяемых в микроэлектронной промышленности, заключается в том, что запись топологии производится в полярной системе координат. Это позволяет получать фотошаблоны лимбов, имеющие высокие технические характеристики. В процессе термохимической записи происходит окисление хромового маскирующего покрытия под действием лазерного луча. В результате этого происходит изменение свойств покрытия: скорость травления окисленного покрытия по отношению к специальному травителю уменьшается, что позволяет формировать требуемую топологию.

Основные операции технологического процесса термохимической записи на пленках хрома: подготовка чертежа фотошаблона в Autocad, запись топологии на генераторе изображений на хромированных стеклянных заготовках, травление хромового покрытия в специальном травителе, контроль топологии, контроль линейных и угловых параметров, контроль дефектности.

Технические характеристики термохимической технологии записи на пленках хрома, используемой на генераторе изображений CLWS- диаметров осей штрихов (для диаметра 4 Неровность края элементов топологии, мкм 0, 4. Эскиз и технические требования круговой оптической шкалы Эскиз детали должен давать необходимое представление о размерах и допусках размеров подложки, о топологии лимба, о размерах и допусках размеров элементов топологии и другом, что необходимо знать для изготовления лимба. Технические требования должны содержать информацию, которая необходима для изготовления лимба или может оказывать влияние на характеристики лимбов, например: N и N, классы чистоты обеих поверхностей, клин, угловые и линейные параметры и требования к ним, характеристики маскирующего покрытия и способа его нанесения, требования к элементам топологии, дефектность маскирующего покрытия и элементов топологии, размеры рабочих зон, маркировка, марка стекла. Эскиз и технические требования не должны содержать информацию, которая не нужна для изготовления лимба, например: характеристики стекла, требования к оптическим покрытиям, которые будут наноситься после изготовления шкалы, некоторые размеры подложек (это могут быть размеры подложек, представляющих собой металлостеклянную сборку). Чертеж лимба может являться групповым чертежом для нескольких исполнений.

Эскиз и технические требования должны содержать только информацию о конкретном исполнении, указанном в задании по курсовой работе.

5. Выбор и обоснование выбора технологических процессов изготовления круговой шкалы, рабочего фотошаблона и фотошаблона-оригинала Для выбора необходимо проанализировать основные технические требования чертежа лимба и соотнести их с техническими характеристиками технологических процессов.

Основные технические требования чертежа лимба:

1. минимальная ширина элементов топологии;

2. угловая погрешность расположения фронтов, осей, диаметров осей штрихов или др.;

3. неравномерность ширины штрихов;

4. класс чистоты.

неравномерность ширины штрихов 0,4 мкм, угловая погрешность расположения диаметров осей штрихов ±6 угл. сек., класс чистоты 0–10.

Для изготовления лимба можно использовать способ обратной фотолитографии, так как его технические характеристики обеспечивают выполнение технических требований. Способ прямой фотолитографии не обеспечивает получение требуемой ширины штриха, неравномерности ширины штриха и требуемого класса чистоты. По этим же причинам для изготовления рабочего фотошаблона следует использовать способ обратной фотолитографии. Термохимическая технология записи на пленках хрома, используемая на генераторе CLWS-300 обеспечивает возможность изготовления фотошаблона-оригинала.

Здесь необходимо отметить, что имеются лимбы, изготавливать которые нецелесообразно способом обратной фотолитографии. Такими лимбами являются металлостеклянные лимбы.

6. Ведомость оснащения Ведомость оснащения – это технический документ, содержащий спроектировать и в каком количестве изготовить для того, чтобы можно было изготавливать деталь, изделие или др. Кроме того, ведомость оснащения определяет сроки проектирования и изготовления, подразделения, ответственные за проектирование и изготовление.

Пример. Ведомость оснащения лимба, который будет изготавливаться способом обратной фотолитографии (табл. 3).

фоторезиста Сроки проектирования и изготовления устанавливаются 1–2 месяца от текущей даты в зависимости от сложности оснастки. Фотошаблон-оригинал нужен в количестве 1 шт. Количество рабочих фотошаблонов устанавливается в зависимости от программы (количества лимбов, которые нужно изготавливать в течение месяца или года). Оправа для нанесения и проявления фоторезиста требуется в количестве 2 шт., оправа для термообработки – в количестве 3 шт. (1 шт. для обработки в парах ГМДС и 2 шт. для операции сушки фоторезистивного покрытия, так как в связи с относительно большим временем сушки используются 2 установки термообработки), оправа для контроля – в количестве 2–4 шт. в зависимости от программы. Оправа для напыления хрома требуется в количестве в пределах 20 шт. в зависимости от программы. Кассета – это приспособление для размещения лимбов в промежутках между проведением технологических операций. Кассета может устанавливаться в тару в случае длительного хранения лимбов или при передаче на операцию напыления хрома. Кассет требуется в количестве в пределах 30 шт., тары – 20 шт. в зависимости от программы. Кассеты для снятия фоторезиста и емкости для снятия фоторезиста требуются, как правило, в количестве не более 2 шт.

При использовании способа прямой фотолитографии пункты 4, 7, 8, 9 и 10 ведомости оснащения (табл. 3) не требуются, так как используется стандартное оснащение.

7. Технические задания на проектирование фотошаблонов Целью разработки технических заданий является определение допусков на линейные и угловые параметры фотошаблонов лимбов, требований по дефектности, вида изображений (позитивное или негативное, прямое или зеркальное), применяемых заготовок и др. Технические задания, как на рабочие фотошаблоны, так и на фотошаблоны-оригиналы должны содержать следующие сведения.

7.1. Вид изображения Первое, что необходимо указать в техническом задании – это вид изображения.

Топология лимба, определяемая чертежом, всегда имеет позитивное прямое изображение независимо от того, в каком виде представлены элементы топологии. Рабочий фотошаблон всегда имеет зеркальное изображение относительно лимба независимо от того, каким способом будет изготавливаться лимб, что обусловлено особенностями операции экспонирование. Фотошаблон-оригинал, соответственно, всегда имеет прямое изображение относительно изображения лимба. Если лимб будет изготавливаться способом прямой фотолитографии, то изображение рабочего фотошаблона должно быть позитивным, так как указанный способ является позитивным технологическим процессом. Если лимб будет изготавливаться способом обратной фотолитографии, то изображение рабочего фотошаблона должно быть негативным, так как указанный способ является негативным технологическим процессом. В зависимости от способа изготовления рабочего фотошаблона определяется вид изображения фотошаблона-оригинала (указывать следует относительно изображения лимба). Если и рабочий фотошаблон, и лимб изготавливаются способом обратной или прямой фотолитографии, то изображение фотошаблонаоригинала должно быть позитивным. После определения видов изображений для каждого фотошаблона необходимо дополнительно указать, какими должны быть элементы топологии, например, светлые на темном фоне, а также, если имеется оцифровка, указать ее направление и другие характеристики. Например, геодезический лимб, который будет изготавливаться способом обратной фотолитографии, имеет темные элементы топологии на светлом фоне, изображение цифр – зеркальное, направление оцифровки – по часовой стрелке. В этом случае для рабочего фотошаблона следует указать: изображение фотошаблона зеркальное, негативное, элементы топологии светлые на темном фоне, изображение цифр – прямое, направление оцифровки – против часовой стрелки.

7.2 Угловая погрешность расположения штрихов Угловая погрешность расположения штрихов – наиболее важный следующими видами угловых погрешностей: угловая погрешность расположения границ (фронтов) штрихов, угловая погрешность расположения осей штрихов, угловая погрешность расположения диаметров осей штрихов и др. Значения погрешностей уменьшаются в этой же последовательности. Вид контролируемой угловой погрешности лимба определяется чертежом. Наиболее распространенным видом контролируемой угловой погрешности геодезических лимбов является угловая погрешность расположения диаметров осей штрихов. Для кодовых лимбов наиболее характерными контролируемыми погрешностями являются интегральные виды указанных выше погрешностей, что обусловлено тем, что считывание показаний в приборе производится по группе штрихов. При переходе к интегральным погрешностям значения соответствующих погрешностей симметричного допуска, например, ± 6 угловых секунд, или в виде накопленной погрешности, т.е. суммы абсолютных величин положительной и отрицательной погрешностей, например, 12 угловых секунд. Угловые погрешности фотошаблона-оригинала определяются технологическим процессом термохимической записи на пленках хрома с использованием генератора изображений модели CLWS-300. Угловые погрешности рабочего фотошаблона определяются технологическим процессом фотолитографии.

Следует иметь в виду, что угловые погрешности, определяемые технологическими процессами, уменьшаются с увеличением диаметра шкалы и наоборот. В технических заданиях необходимо так распределить допуски на угловые погрешности фотошаблонов, чтобы создать наиболее благоприятные условия, как для изготовления лимбов, так и для изготовления фотошаблонов. Например: угловая погрешность расположения диаметров осей штрихов лимба составляет ± 6 угл. сек., лимб и рабочий фотошаблон изготавливаются способом обратной фотолитографии. Наиболее рациональным является установить погрешность для рабочего фотошаблона ± 3 угл. сек., а для фотошаблона-оригинала ± 2 угл. сек. Такое распределение погрешностей позволит гарантировано получать, как фотошаблоны, так и лимбы с необходимыми характеристиками. Более сложная ситуация имеет место, если, например, угловая погрешность расположения диаметров осей штрихов лимба составляет только ± 1,5 угл. сек. В этом случае угловую погрешность следует установить одинаковую для фотошаблона-оригинала и рабочего фотошаблона, и равную ± 1 угл. сек., а рабочие фотошаблоны с требуемой угловой погрешностью следует получать методом отбора из нескольких фотошаблонов.

7.3. Допуски на линейные размеры шкал Как правило, наиболее критичными допусками являются допуски на ширину штриха. Поле допусков для лимбов может составлять от 1 мкм (± 0,5 мкм) до 5 мкм и более. Требуемое поле допуска для термохимической технологии записи на пленках хрома (фотошаблон-оригинал) составляет не менее 0,5 мкм. Для рабочего фотошаблона, изготавливаемого способом обратной фотолитографии, допуск необходимо увеличить не менее чем на ± 0,3 мкм. На такое же значение должен увеличиться допуск при изготовлении лимба способом обратной фотолитографии. Например: ширина изготавливаются способом обратной фотолитографии. В этом случае допуск для фотошаблона-оригинала составит ± 0,3 мкм, для рабочего фотошаблона – ± 0,6 мкм. Если допуск на ширину штриха для лимба составляет ± 0,5 мкм, то технологический процесс обратной фотолитографии обеспечивал соответствие всех лимбов требованиям чертежа по ширине штриха необходимо поле допуска в размере 0,6 мкм (± 0,3 мкм) оставить в запасе для указанного технологического техпроцесса. Тогда для рабочего фотошаблона допуск должен составлять ± 0,2 мкм. Допуск для фотошаблона-оригинала также будет составлять ± 0,2 мкм. Фотошаблоны с требуемыми допусками следует получать методом отбора из нескольких фотошаблонов.

Если лимб изготавливается способом прямой фотолитографии, то в этом случае допуск на ширину штриха составляет, как правило, не менее ± 1,5 мкм. Для рабочего фотошаблона допуск на ширину светлых элементов топологии может составлять 0, -1,5 мкм, а для темных 0, +1,5 мкм. Если и рабочий фотошаблон изготавливается способом прямой фотолитографии, то допуски могут быть для светлых элементов топологии -1,0; -2,5 мкм, для темных +1,0; +2,5 мкм.

На чертежах лимбов имеется кроме ширины штрихов много других линейных размеров. Их можно разделить условно на критичные и некритичные размеры. Критичными являются размеры, допуски на которые близки по своим значениям к допускам, которые обеспечивают технологические процессы. Критичными размерами могут быть ширина обводки цифр, ширина обводки знаков, ширина центрировочной окружности и др. Для них распределение допусков для фотошаблонов производится так же, как и для ширины штриха. Допуски на некритичные размеры устанавливаются следующим образом: для рабочих фотошаблонов допуски ужесточаются в 2 раза, допуски для фотошаблонов-оригиналов ужесточаются в 3 раза по сравнению с допусками для лимба. В технических заданиях допуски на критичные размеры надо указывать конкретно для каждого фотошаблона и для каждого размера, ужесточение допусков для некритичных размеров указывается одновременно для всех некритичных размеров. Иногда в чертежах лимбов указываются несимметричные допуски.

В этом случае, как для критичных, так и для некритичных размеров необходимо указывать конкретные допуски.

Специфическим линейным параметром является неравномерность ширины штрихов лимба. Как правило, она не бывает меньше 0,4 мкм. Такое значение можно достичь только, если лимб и рабочий фотошаблон изготавливаются способом обратной фотолитографии. В этом случае для рабочего фотошаблона неравномерность ширины должна составлять 0,3 мкм, а для фотошаблона-оригинала – 0,2 мкм. Если значение неравномерности ширины штрихов для лимба составляет 0,3 мкм, то для рабочего фотошаблона и фотошаблона-оригинала следует установить одинаковое значение равное 0,2 мкм, а рабочий фотошаблон с требуемым значением следует получать методом отбора из нескольких фотошаблонов. Лимб можно изготавливать способом прямой фотолитографии, если, как следует из табл. 1, значение неравномерности составляет не менее 1 мкм.

7.4. Дефектность Требования по дефектности геодезических лимбов можно разделить на два вида: дефекты элементов топологии и дефекты, обусловленные классом чистоты.

Дефекты элементов топологии определяются количеством допустимых разрывов и утолщений и их размеров, которые задаются в единицах толщин элементов топологии. Например, на штрихах допускается на весь лимб два разрыва длиной до 1,5 ширины штриха и два утолщения длиной до 1 ширины штриха и шириной до 0,5 ширины штриха. Для рабочего фотошаблона эти требования ужесточаются: на весь фотошаблон можно допустить 1 разрыв штриха длиной в 1 ширину штриха и одно утолщение длиной до 0,5 ширины штриха и шириной до 0,25 ширины штриха. Для фотошаблона-оригинала можно также провести дальнейшее ужесточение требований, но технологический процесс термохимической записи на пленках хрома с использованием генератора изображений CLWS-300 в условиях «чистых помещений» позволяет получить практически бездефектное изображение.

Поэтому для фотошаблона-оригинала указанное требование может выглядеть таким образом: дефекты элементов топологии не допускаются. Требования по дефектам могут относиться к штрихам, цифрам, знакам, буквам и другим элементам топологии. Одним из элементов топологии геодезических лимбов является центрировочная окружность, дефектность которой, как правило, не нормируется, но для рабочих фотошаблонов требования по дефектности центрировочной окружности должны быть определены. Например: для рабочего фотошаблона на центрировочной окружности допускаются разрывы в количестве 4 шт. длиной не более 10 мкм и утолщения в количестве 4 шт.

длиной 5 мкм и шириной до 3 мкм, а для фотошаблона-оригинала дефекты центрировочной окружности не допускаются.

Дефекты, обусловленные классом чистоты полированной поверхности в рабочей зоне шкалы, могут задаваться как в виде конкретного класса чистоты по ГОСТ 11141, так и в виде максимально допустимого количества и размера дефектов, при этом дефекты рассматриваются, как правило, независимо от их происхождения: дефекты стекла или дефекты маскирующего покрытия (темные точки). Из этого следует, что рабочий фотошаблон не должен быть источником дефектов (темных точек), так как полированная поверхность лимба очень часто имеет собственные дефекты и дополнительная дефектность, получаемая от рабочего фотошаблона, которую нельзя устранить, приведет к значительному увеличению количества бракованных деталей. В результате дефектность рабочего фотошаблона будет определяться не требованием по дефектности лимба, а особенностями технологического процесса обратной фотолитографии, а точнее одной из вспомогательных операций: устранение дефектов; которая заключается в удалении хромовых точек методом травления. При устранении темных хромовых точек они обводятся кисточкой специальным защитным составом, после чего производится локальное травление под микроскопом. Для того чтобы можно было обвести точку защитным составом необходимо, чтобы точка находилась от элементов топологии на расстоянии не ближе 30 мкм.

Травлением можно устранить любое количество хромовых точек, но значительное их количество может привести к недопустимому увеличению трудоемкости изготовления лимба. Следует учитывать, что темные хромовые точки могут образовываться не только из-за дефектов фотошаблона.

Конечно, на рабочем фотошаблоне могут быть дефекты, особенно в случае рабочего (темнопольного) фотошаблона геодезического лимба, изготовленного способом обратной фотолитографии, но их допустимое количество определяется технологом в зависимости от трудоемкости изготовления лимба и от других факторов. В техническом задании необходимо указать количество дефектов на рабочем фотошаблоне, в данном случае проколов. Это может быть 5 прозрачных дефектов (проколов).

Размеры дефектов на рабочем фотошаблоне не имеют большого значения, так как устранять травлением можно точку диаметром и 1,5 мкм, и диаметром 30 мкм. Но всё же, максимальное значение нужно установить: это может быть, например, 50 мкм.

Для светлопольного фотошаблона-оригинала геодезического лимба, с помощью которого способом обратной фотолитографии будут изготавливаться рабочие фотошаблоны, темные точки не допускаются, так как если они образуются, то их можно устранить травлением, а если они находятся очень близко к элементам топологии, фотошаблон бракуется.

Дефектность кодовых лимбов определяется классом чистоты (обычно это II, III и IV классы) и дополнительными требованиями по дефектности маскирующего (хромового) покрытия. Если дополнительные требования отсутствуют, то допустимая дефектность маскирующего покрытия определяется классом чистоты. В этом случае можно ужесточить класс чистоты при переходе от лимба к рабочему фотошаблону и к фотошаблонуоригиналу, применяя его только к маскирующему покрытию. Но, как правило, в чертежах кодовых лимбов имеются требования по дефектности маскирующего покрытия. Они касаются, как темных, так и светлых дефектов. Например, на дуге длиной 1 мм допустимая площадь темных (непрозрачных) дефектов составляет 0,005 мм2, допустимая площадь светлых дефектов составляет не более 0,005 мм2. В технических заданиях необходимо указать допустимую площадь как светлых, так и темных дефектов.

Это может быть 0,003 мм2 для рабочего фотошаблона и 0,002 мм2 для фотошаблона-оригинала. Если допустимая площадь темных и светлых дефектов имеет разные значения, то при переходе к фотошаблонам необходимо учитывать, как меняются изображения фотошаблонов. Если лимб изготавливается способом обратной фотолитографии, то светлым дефектам на лимбе будут соответствовать темные дефекты на рабочем фотошаблоне.

7.5. Заготовки фотошаблонов Для изготовления фотошаблонов-оригиналов используются пластины прецизионные хромированные ППХ127х127А. Если диаметр лимба превышает 100 мм, то следует использовать заготовки ППХ153х153А или другие. Для изготовления рабочих фотошаблонов способом обратной фотолитографии используются заготовки ППХ102х102А после снятия хромового покрытия, если диаметр лимба не превышает 80 мм, заготовки ППХ127х127А после снятия хромового покрытия, если диаметр лимба не превышает 100 мм. Для изготовления рабочих фотошаблонов способом прямой фотолитографии используются заготовки ППХ102х102А, ППХ127х127А или другие в зависимости от диаметра лимба.

7.6. Способы изготовления Способы изготовления лимбов, а также других оптических шкал, регламентируются отраслевым стандартом ОСТ3-3312-76. Способ прямой фотолитографический способ изготовления, буква «т» – травление, «9И» – хромовое покрытие, т.е. лимб должен изготавливаться способом прямой фотолитографии с использованием хромового покрытия в качестве маскирующего покрытия. Способ обратной фотолитографии обозначается Ф9И. Механический способ изготовления шкал может обозначаться, например, М9И. Это означает, что лимб должен быть изготовлен механическим способом деления по лаковому покрытию с последующим напылением хромового покрытия. Требование об использовании механического способа изготовления встречается в старых чертежах. Его необходимо заменить на Ф9И, или Фт9И. Обычно в чертежах лимбов допускается использование обоих фотолитографических способов. Если в чертеже лимба указан способ Фт9И, а по техническим требованиям необходимо использовать способ обратной фотолитографии, то следует отдать предпочтение способу обратной фотолитографии (формально необходимо внести изменения в чертеж), что необходимо указать в технических требованиях лимба. В техническом задании для рабочего фотошаблона необходимо указать способ его изготовления Ф9И, или Фт9И, т.е. способом обратной или прямой фотолитографии будет изготавливаться фотошаблон. Так как термохимическая технология записи на пленках хрома является новым способом формирования топологии оптических шкал, и сведения о ней в отраслевом стандарте отсутствуют, то для фотошаблоноворигиналов следует указывать, что их нужно изготавливать с использованием термохимической технологии записи на пленках хрома.

7.7. Маркировка В чертежах многих лимбов имеется требование указывать порядковый номер детали и дату изготовления. Это требование не распространяется на фотошаблоны. Для фотошаблонов в технических заданиях необходимо указать следующее требование: маркировать фотошаблон и указать дату его изготовления. Маркировка и указание даты изготовления необходимы для идентификации фотошаблонов в процессе аттестации и работы с ними.

Маркировка представляет собой шифр фотошаблона, который присваивает конструктор-проектировщик фотошаблонов, состоящий из собственно самого шифра фотошаблона и шифра лимба.

7.8. Пропускание хромового маскирующего покрытия фотошаблонов характеристикам хромового маскирующего покрытия. Это требования к отражению покрытия и пропусканию или плотности покрытия. Требование к отражению хромового покрытия лимба обеспечивается нанесением на поверхность лимба после изготовления шкалы антиотражающего покрытия и, следовательно, в эскизе и технических требованиях не указывается.

Пропускание хромового покрытия задаётся, как правило, в пределах от 10 % до 0,1 %, что соответствует значениям плотности от 1 до 3. Обычно в чертежах лимбов также указывается длина волны, для которой определяется пропускание. Требование к пропусканию хромового покрытия должно быть указано в эскизе и технических требованиях лимба, так как пропускание обеспечивается его толщиной, которая влияет на технологические свойства покрытия и точность изготовления шкалы. Требование к пропусканию хромового маскирующего покрытия фотошаблонов определяется только технологиями фотолитографии. Это требование является одинаковым для рабочих фотошаблонов и фотошаблонов-оригиналов: пропускание хромового покрытия 1 % для длин волн от 0,4 до 0,7 мкм, что необходимо указать в технических заданиях.

7.9. Неровность края В чертежах лимбов иногда имеются требования по неровности края элементов топологии. В этом случае при составлении технических заданий следует руководствоваться данными таблиц № 1 и № 2.

В чертежах лимбов, как правило, имеется требование паспортизации наиболее важных параметров. Одним из таких параметров обычно является угловая погрешность расположения штрихов. Паспортизация заключается в фиксировании конкретного значения параметра в сопроводительном документе (паспорте). Также в паспорте указывается номер лимба и дата изготовления. В технических заданиях на изготовление фотошаблонов требование паспортизации не указывается, так как фотошаблоны проверяются по всем требованиям чертежа в центральной измерительной лаборатории, по результатам измерений заполняется паспорт фотошаблона.

Параметры, которые обеспечиваются инструментом Часть технических требований чертежей лимбов заканчиваются фразой: обеспечивается инструментом. Инструментом для лимба является рабочий фотошаблон, а инструментом для рабочего фотошаблона является фотошаблон-оригинал. Смысл фразы «обеспечивается инструментом»

состоит в том, что указанный параметр можно не проверять у лимбов, а проверять в процессе аттестации фотошаблонов.

ЛИТЕРАТУРА

1. Моро, У. Микролитография. В двух частях. / Уэйн Моро ; М. : Мир, 1990. 1239 с.

В.С. Корсаков, В.П. Лаврищев, А.И. Лубашевская, В.И. Мишачев ; под общ. ред. В.П. Лаврищева ; М. : Энергия, 1977. 400 с.

3. Рубцов, И.Н. Фотолитография и оптика / И.Н. Рубцов, И. Шиллинг, В.В. Вольцит, О. Вайбрехт ; под ред. Я.А. Федотова и Г. Поля ; М. :

Советское радио ; Берлин : Техника, 1974. 392 с.

4. Окатов, М.А. Справочник технолога-оптика / М.А. Окатов, Э.А. Антонов, А. Байгожин и др. ; под ред. М.А. Окатова ; СПб. :

Политехника, 2004. 679 с.

5. Ведерников, В.М. Лазерная технология изготовления круговых шкал и кодовых дисков / В.М. Ведерников, В.П. Кирьянов, В.П. Корольков, А.М. Щербаченко, Ю.И. Юрлов ; Новосибирск, 1986. 39 с.

6. Федотов, А.И. Автоматизация делительных работ / А.И. Федотов ;

Ленинград : Машиностроение, 1969. 319 с.

7. Федотов, А.И. Технология автоматизированного нанесения штрихов и знаков / А.И. Федотов ; Ленинград : Машиностроение, 1977. 302 с.

ОГЛАВЛЕНИЕ

2. Технологические процессы изготовления круговых оптических 3. Технологические процессы изготовления фотошаблонов круговых 4. Эскиз и технические требования круговой оптической шкалы 5. Выбор и обоснование выбора технологических процессов изготовления круговой шкалы, рабочего фотошаблона и 7. Технические задания на проектирование фотошаблонов Учебное электронное текстовое издание

ПОДГОТОВКА ОПТИЧЕСКОГО ПРОИЗВОДСТВА

ДЛЯ ИЗГОТОВЛЕНИЯ КРУГОВЫХ ШКАЛ (ЛИМБОВ)

Рекомендовано РИС ГОУ ВПО УГТУ-УПИ Формат 60х90 1/8 Объем 1,1 уч.-изд. л.

Издательство ГОУ-ВПО УГТУ-УПИ

ГОУ ВПО УГТУ-УПИ



 


Похожие работы:

«Химия 1. Химия.Мультимедийное учебное пособие нового образца 8 класс. 3 CD/ Просвещение2004. Соответствие обязательному м минимуму образования. Сетевая версия. Инвентарный номер: 2 2. Химия курс химии общеобразовательных учреждений. Сетевая версия. Инвентарный номер : 25 3. Химия.Мультимедийное учебное пособие нового образца 9класс. 3 CD/ Просвещение2004. Соответствие обязательному м минимуму образования. Инвентарный номер: 28; 139. 4. Органическая химия. 10-11 класс. [Электрон. ресурс]. -...»

«МИНИСТЕРСТВО ОБРАЗОВАНИЯ И НАУКИ РОССИЙСКОЙ ФЕДЕРАЦИИ БАШКИРСКИЙ ГОСУДАРСТВЕННЫЙ УНИВЕРСИТЕТ НИЛ ГАММЕТТ УФИМСКОГО ГОСУДАРСТВЕННОГО АВИАЦИОННОГО ТЕХНИЧЕСКОГО УНИВЕРСИТЕТА В.П. МАЛИНСКАЯ Р.М. АХМЕТХАНОВ КОЛЛОИДНАЯ ХИМИЯ В ВОПРОСАХ И ОТВЕТАХ Учебное пособие Уфа РИЦ БашГУ 2013 УДК 544.77(075.32) Издание осуществлено при финансовой поддержке РФФИ (проект 12-01моб-г), при поддержке гранта правительства РФ по договору №11.G34.31.0042 и за счет внебюджетных средств БашГУ. Издание подготовлено в рамках...»

«МИНИСТЕРСТВО РОССИЙСКОЙ ФЕДЕРАЦИИ ПО ДЕЛАМ ГРАЖДАНСКОЙ БОРОНЫ, ЧРЕЗВЫЧАЙНЫМ СИТУАЦИЯМ И ЛИКВИДАЦИИ ПОСЛЕДСТВИЙ СТИХИЙНЫХБЕДСТВИЙ Академия Государственной противопожарной службы А.С. Андросов КУРСОВАЯ РАБОТА по дисциплине Физико-химические основы развития и тушения пожаров Теоретический расчет основных параметров горения и тушения пожара газового фонтана Москва 2003 МИНИСТЕРСТВО РОССИЙСКОЙ ФЕДЕРАЦИИ ПО ДЕЛАМ ГРАЖДАНСКОЙ БОРОНЫ, ЧРЕЗВЫЧАЙНЫМ СИТУАЦИЯМ И ЛИКВИДАЦИИ ПОСЛЕДСТВИЙ СТИХИЙНЫХБЕДСТВИЙ...»

«ФЕДЕРАЛЬНОЕ АГЕНТСТВО ПО ОБРАЗОВАНИЮ Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования Ивановская государственная текстильная академия (ИГТА) Кафедра химии КРАШЕНИЕ НАТУРАЛЬНОЙ КОЖИ И МЕХА Методические указания к выполнению контрольной работы для студентов заочного факультета специальностей 260901, 260902 Иваново 2008 Методические указания разработаны для студентов, изучающих дисциплину Химическая технология текстильных материалов. В них рассмотрены вопросы...»

«Федеральное агентство по образованию Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования АМУРСКИЙ ГОСУДАРСТВЕННЫЙ УНИВЕРСИТЕТ (ГОУ ВПО АмГУ) Инженерно-физический факультет ФИЗИКО-ХИМИЧЕСКИЕ СВОЙСТВА И МЕТОДЫ КОНТРОЛЯ КАЧЕСТВА УЧЕБНО-МЕТОДИЧЕСКИЙ КОМПЛЕКС ДИСЦИПЛИНЫ Составитель: В.И. Митрофанова Благовещенск, 2007 Печатается по решению редакционно-издательского совета инженерно-физического факультета Амурского государственного университета Митрофанова В.И....»

«Проект Министерство образования Российской Федерации Одобрено Утверждаю ПРИМЕРНАЯ ПРОГРАММА СПЕЦИАЛЬНЫХ ДИСЦИПЛИН для научной специальности 25.00.09 Геохимия, геохимические методы поисков полезных ископаемых (геолого-минералогические науки) Москва 2000 2 ПРИМЕРНАЯ ПРОГРАММА СПЕЦИАЛЬНЫХ ДИСЦИПЛИН для научной специальности 25.00.09 Геохимия, геохимические методы поисков полезных ископаемых (геолого-минералогические науки) Пояснительная записка. Независимо от темы кандидатской диссертации и...»

«Донецкий национальный медицинский университет им. М.Горького. Кафедра медицинской химии. МЕТОДИЧЕСКИЕ УКАЗАНИЯ к практическим занятиям по биоорганической химии (для студентов первого курса медицинского факультета). Донецк - 2011 Методические указания подготовили: -зав. кафедрой доцент Рождественский Е.Ю. -доценты: Сидун М.С., Селезнева Е. В. -ст. преподаватель Павленко В.И. -ассистенты кафедры: Бусурина З.А., Сидоренко Л.М., Игнатьева В.В., Бойцова В.Е. -2Вступление. Целью развития...»

«В.Л. Софронов, И.Ю. Русаков, Т.В. Ощепкова РАСЧЕТ СТРУЙНЫХ АППАРАТОВ Учебное пособие Северск 2011 МИНИСТЕРСТВО ОБРАЗОВАНИЯ И НАУКИ РОССИЙСКОЙ ФЕДЕРАЦИИ Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования Национальный исследовательский ядерный университет МИФИ Северский технологический институт - филиал НИЯУ МИФИ (СТИ НИЯУ МИФИ) В.Л. Софронов, И.Ю. Русаков, Т.В. Ощепкова РАСЧЕТ СТРУЙНЫХ АППАРАТОВ Учебное пособие Северск 2011 УДК...»

«Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования Иркутский государственный медицинский университет Министерства здравоохранения и социального развития Российской Федерации Кафедра управления и экономики фармации УЧЕБНО-МЕТОДИЧЕСКОЕ ПОСОБИЕ ДЛЯ СТУДЕНТОВ ТОВАРОВЕДЕНИЕ ЛЕКАРСТВЕННОГО РАСТИТЕЛЬНОГО СЫРЬЯ И ЛЕКАРСТВЕННЫХ СРЕДСТВ ИЗ НЕГО Иркутск 2011 УДК 615.4:658.81(075.8) Авторы: сотрудники кафедры управления и экономики фармации Иркутского государственного...»

«Ветеринарная микробиология и иммунология: учебник : [для вузов по специальности 111801 Ветеринария], 2012, 746 страниц, Виктор Никифорович Кисленко, Колычев Н.М., Госманов Р.Г. / Под ред. В.Н. Кисленко, 5970422983, 9785970422984, ГЭОТАР-Медиа, 2012. Учебник состоит из 3 разделов. В первом разделе Общая микробиология приведены сведения о месте прокариот среди живых организмов, морфологии и химическом составе микроорганизмов об обмене веществ и энергии в микробной клетке. Опубликовано: 13th July...»

«М.И. Ведерникова Л.Г. Старцева Ю.Л. Юрьев ПРИМЕРЫ И ЗАДАЧИ ПО МАССООБМЕННЫМ ПРОЦЕССАМ ХИМИЧЕСКОЙ ТЕХНОЛОГИИ Дистилляция и ректификация МИНОБРНАУКИ РОССИИ ГОУ ВПО УРАЛЬСКИЙ ГОСУДАРСТВЕННЫЙ МИНОБРНАУКИ РОССИИ ЛЕСОТЕХНИЧЕСКИЙ УНИВЕРСИТЕТ М.И. Ведерникова Л.Г. Старцева Ю.Л. Юрьев ПРИМЕРЫ И ЗАДАЧИ ПО МАССООБМЕННЫМ ПРОЦЕССАМ ХИМИЧЕСКОЙ ТЕХНОЛОГИИ Часть II Дистилляция и ректификация Учебное пособие Екатеринбург УДК 66.02(076.1) ББК 35.11Я В Рецензенты: Кафедра процессов и аппаратов химической...»

«Федеральное агентство по образованию Государственное образовательное учреждение Высшего профессионального образования Казанский государственный технологический университет Р.А. Хайруллин, М.Б. Газизов, А.И. Алехина, Л.Р. Багаува МЕТОДЫ ПОЛУЧЕНИЯ ОРГАНИЧЕСКИХ СОЕДИНЕНИЙ Учебное пособие Казань 2008 ББК УДК 547 (075.8) Методы получения органических соединений: учебное пособие/ Р.А.Хайруллин, М.Б.Газизов, А.И.Алехина, Л.Р.Багаува; Казан. гос. технол. ун-т. Казань, 2008. – 309 с. Рассмотрены методы...»

«МИНИСТЕРСТВО СЕЛЬСКОГО ХОЗЯЙСТВА РОССИЙСКОЙ ФЕДЕРАЦИИ Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования КУБАНСКИЙ ГОСУДАРСТВЕННЫЙ АГРАРНЫЙ УНИВЕРСИТЕТ А.А. ШЕВЧЕНКО, О. Ю. ЧЕРНЫХ, Л.В. ШЕВЧЕНКО, Г.А. ДЖАИЛИДИ, Д.Ю. ЗЕРКАЛЕВ. Е.А. ГОРПИНЧЕНКО ДИАГНОСТИКА АКТИНОМИКОЗА Учебное пособие г. Краснодар, 2013 1 МИНИСТЕРСТВО СЕЛЬСКОГО ХОЗЯЙСТВА РОССИЙСКОЙ ФЕДЕРАЦИИ Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего...»

«МИНИСТЕРСТВО ОБРАЗОВАНИЯ И НАУКИ РОССИЙСКОЙ ФЕДЕРАЦИИ Сыктывкарский лесной институт (филиал) федерального государственного бюджетного образовательного учреждения высшего профессионального образования Санкт-Петербургский государственный лесотехнический университет имени С. М. Кирова (СЛИ) Кафедра общей и прикладной экологии КЛИМАТОЛОГИЯ РЕСПУБЛИКИ КОМИ Учебно-методический комплекс по дисциплине для студентов направления бакалавриата 280200 Защита окружающей среды и специальности 280201 Охрана...»

«МИНИСТЕРСТВО ОБРАЗОВАНИЯ И НАУКИ РОССИЙСКОЙ ФЕДРАЦИИ Федеральное агентство по образованию Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования ГОРНО-АЛТАЙСКИЙ ГОСУДАРСТВЕННЫЙ УНИВРСИТЕТ Биолого-химический факультет Кафедра органической, биологической химии и методики преподавания химии Учебное пособие по органической химии Алифатические и ароматические углеводороды Составитель д.х.н., профессор кафедры органической, биологической химии и методики преподавания химии...»

«МИНИСТЕРСТВО ОБРАЗОВАНИЯ РОССИЙСКОЙ ФЕДЕРАЦИИ Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования Ивановская государственная текстильная академия Кафедра химии ХИМИЧЕСКИЕ ПРОЦЕССЫ И ОБОРУДОВАНИЕ КРАСИЛЬНО-ОТДЕЛОЧНОГО ПРОИЗВОДСТВА Методические указания для студентов специальности 170703 Иваново 2004 Методические указания содержат сведения о технологическом оборудовании красильно-отделочного производства, облегчающие самостоятельную работу студентов. Изложены основы...»

«Министерство образования и науки Российской Федерации Сыктывкарский лесной институт (филиал) федерального государственного бюджетного образовательного учреждения высшего профессионального образования Санкт-Петербургский государственный лесотехнический университет имени С. М. Кирова (СЛИ) Кафедра Общая и прикладная экология Промышленная экология Учебно-методический комплекс по дисциплине для студентов направления бакалавриата 280200 Защита окружающей среды и специальности 280201 Охрана...»

«Министерство образования Республики Беларусь Учреждение образования Брестский государственный технический университет Кафедра инженерной экологии и химии МЕТОДИЧЕСКИЕ УКАЗАНИЯ к проведению лабораторных работ по дисциплине ОСНОВЫ СЕЛЬСКОХОЗЯЙСТВЕННОЙ ЭКОЛОГИИ И ОХРАНЫ ПРИРОДЫ для студентов специальности 740501 Мелиорация и водное хозяйство (Часть 1. Сельскохозяйственная экология) Брест 2002 2 УДК 556.574.55 В методических указаниях рассмотрены вопросы прогноза возможного загрязнения подземных...»

«Донецкий национальный медицинский университет им. М.Горького. Кафедра медицинской химии. МЕТОДИЧЕСКИЕ УКАЗАНИЯ к практическим занятиям по биоорганической химии (для студентов первого курса стоматологического факультета). Донецк - 2011 Методические указания подготовили: -зав. кафедрой доцент Рождественский Е.Ю. -доценты: Сидун М.С., Селезнева Е. В. -ст. преподаватель Павленко В.И. -ассистенты кафедры: Бусурина З.А., Сидоренко Л.М., Игнатьева В.В., Бойцова В.Е. -2Вступление. Целью развития...»

«1 ФЕДЕРАЛЬНОЕ АГЕНТСТВО ПО ОБРАЗОВАНИЮ Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования Уральский государственный университет им. А.М. Горького ИОНЦ Экология и природопользование Химический факультет Кафедра органической химии Органические суперэкотоксиканты. Аналитический аспект Методические указания к изучению дисциплины Екатеринбург 2007 2 Введение В спецкурсе обобщены данные по организации и проведению экологоаналитического мониторинга органических...»














 
© 2013 www.diss.seluk.ru - «Бесплатная электронная библиотека - Авторефераты, Диссертации, Монографии, Методички, учебные программы»

Материалы этого сайта размещены для ознакомления, все права принадлежат их авторам.
Если Вы не согласны с тем, что Ваш материал размещён на этом сайте, пожалуйста, напишите нам, мы в течении 1-2 рабочих дней удалим его.